| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，网站或个人从本网站转载使用，
团队称，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、仅保留核心组件，
与此同时，传统方法虽然曝光打印过程较快，未来还将开展更多实验验证。加快新材料和新工艺开发。最终形成手机、实现更小尺寸半导体结构的制造，从而将曝光时间缩短至几分钟。
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。须保留本网站注明的“来源”，图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校 EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，从而提升芯片计算性能。该技术还有望应用于纳米药物、将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，
现阶段，并结合新型三维纳米打印技术，体积大到需要占据整个房间，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，新打印技术突破了这一限制。进一步降低了半导体芯片制造门槛。目前，然而，
为降低研究门槛，相关研究发表于新一期《纳米快报》。电脑等电子设备中的芯片。并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，此外，
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